1200℃双温区4坩埚分体式HPCVD炉（带进样系统）
关键字：
双温区、开启式、依次移动
型号：
OTF-1200X-II-ZL
产品概述：
OTF-1200X-II-ZL是一款炉管可在炉管内部移动的（在真空气氛保护环境下移动）管式炉，最多可依次移动4个坩埚。特殊的坩埚推送机构，可将坩埚在炉管内推出后再拉回，让坩埚能做往返移动。坩埚移动位置&炉体的温度控制都采用一触摸屏控制。此款设备可进行物理化学混合沉积（HPCVD），快速热蒸发（RTE）等实验，适合制备多层二维晶体材料。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
开启式管式炉

  • 双温区管式炉：两个独立的温控系统分别独立控制两个温区

  • 加热区长度：温区1:200mm, 温区2:200mm

  • 炉管材料：高纯石英

  • 炉管尺寸：外径: 60 ×内径: 54×长: 760 mm

  • 温度曲线图(两个温区设置在800℃时所测，仅供参考）（可点击图片查看详细资料））

  • 最高工作温度：1200℃（<1hr)

  • 连续工作温度：1100℃

  • 控温精度：+/-1℃

  •  
真空密封

  • 配有不锈钢密封法兰，上面安装有不锈钢截止阀和机械压力表

  • 进气端法兰接口为Φ6.35卡套接头，出气端法兰接口为KF25接口

  • 法兰密封圈采用水冷却，使用时需要通入冷却水，可在本公司选购循环水冷机

  • 真空度：10E-2 torr（采用机械泵），10-E5 torr(采用分子泵)

  •   
坩埚移动机构（转轮式法兰）

  • 一根铠装热电偶通过左端法兰通入到炉管内部，并与坩埚相连接(图1)

  • 通过步进电机驱动使坩埚移动，并和热电偶和坩埚一起移动，实时监测样品的温度

  • 进气端法兰转轮式法兰（图2）

  • 可同时在转轮系统中放入4个坩埚，可交替将放入4种材料的石英坩埚自动送入到石英管中（可在真空状态或气氛保护状态进行运作）
坩埚移动控制

  • 通过一步进电机控制坩埚移动的速度和位置

  • 可控制坩埚最小移动位移为1mm

  • 坩埚最大移动距离为200mm

  •   
防腐型数显真空计

  • 配有一数显防腐型真空计

  • 当气压在10mbar以上时，不需因测量气体种类不同而进行系数转换

  • 对于气体的压力检测具有较高的精确度和重复性

  • 因为传感器上镀有涂层，所以具有较好的抗腐蚀性

  • 测量范围：3.8x10-5 -1125 Torr
混气系统

  • 此套设备中配有一2路混气系统

  • 最大输出功率：18W

  • 工作温度：5-45℃

  • 最大气压：3×106Pa

  • 精度：±1%FS

  • 质量流量计量程：

  • 1:0-100sccm

  • 2:1-199sccm

  • 可根据客户要求选购1-5路供气系统
产品尺寸

2400L×600W×1300mm H
   
质保

一年质保期，终生维护（不包含炉管，密封圈和加热元件）
质量认证


使用注意事项

  • 炉管内气压不可高于0.02MPa

  • 由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全

  • 当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态

  • 进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击

  • 石英管的长时间使用温度＜1100℃

  • 对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉 管破裂，法兰飞出等）
应用注意事项

  • 此款管式炉具有多种用途

  • 热蒸发：把蒸发料放在坩埚里，通过移动坩埚来精确找到所需要的蒸发温度

  • HPCVD：和热蒸发相似，可通入反应气体与蒸发的物料反应后再沉积

  • 可用于制作多层二维晶体
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国家专利


专利名称：多样品单通道自动切换进样系统及其进样方法


专利号：ZL 2016 1 0396132.X


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