| 特点 | · 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作 · 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布 · 磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命 · 标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配 · 安装是采用标准真空接头，便于操作 · 更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度 配有一块铜靶
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| 溅射头 | · 溅射头的直径:46.3mm · 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm) · 靶材的最大厚度: 1/8" (3mm) · 磁环:NdFeB稀土永磁铁 杆的直径: 3/4" O.D.
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| 所需功率 | DC (最大) 250 W RF （最大）100 W |
| 最大阴极溅射电流 | 3A |
| 阴极溅射电流 | 200 - 1,000 V |
| 可选压力范围 | ~1 mTorr 至1 Torr |
| 溅射厚度均匀性图 | · · 注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为： · 功率：直流150W · 真空环境：10mTorr(Ar) 靶材与基片的距离：75mm |
| 水冷却 | · 所需水流量： 1/2 GPM · 进水温度：<20 ℃ 水管接头：0.25" O.D快插头
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| 接头 | · 电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配 · 本公司会赠送一高真空快速接头 · 此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸
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| 产品长度 | 14英寸（355.6mm) |
| 产品重量 | 1.36kg |
| 倾斜装置 | · 溅射头相对于杆最大可倾斜+/- 45度 · 倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度
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| 可选配件 | · 循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L 本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪 |
| 质保期 | 一年质保期终身维护 |
| 应用 | · 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用： · 薄膜涂覆 · 半导体器件 · 磁记录介质 · 超导薄膜 · 量子计算器件 · MEMS · 生物传感器 · 纳米技术 · 超晶格 · 颗粒膜 · 记忆合金 · 组合薄膜沉积 光学薄膜 |
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