| 设备名称 | 1英寸双靶射频磁控溅射镀膜仪—VTC-1RF-II（2021.1.29--j9九游会实验室审核） |
| 产品提示 | |
| 主要特点 | ·小型台式双靶等离子溅射仪(射频磁控型) ·此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜 ·可以配置高压直流电源，适合客户制作一些金属薄膜 |
| 输入电源 | ·220VAC 50/60Hz, 单相 ·1200W (包括真空泵） |
| 等离子源 | ·标配有两套13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配） ·注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。 ·可选配有500W的直流电源（采用手动调节功率和电流）
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| 磁控溅射头 | ·两个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接 ·靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm ·一个快速挡板安装在法兰上 ·溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）
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| 真空腔体 | ·真空腔体：256mm OD x 250mm ID x 276mm H，采用高纯石英制作 ·密封法兰:直径为φ274mm . 采用不锈钢制作，采用硅胶密封圈密封 ·一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体（如下图） ·真空度：<1.0×10-2 Torr （采用双极旋片真空泵）,<5×10-5 torr （采涡旋分子泵） ·如果需要更高真空度，可以定做不锈钢真空腔室（真空度可以达到5*10-6torr以下）
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| 载样台 | ·载样台可旋转（为了制膜更加均匀），并可加热 ·载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片） ·旋转速度：3- 10 rpm（可调速） ·样品台的最高加热温度为700℃ (短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃ ，控温精度+/- 5 ℃
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| 真空泵 | ·型号：VRD-16 ·抽气速率：4.4 L/S ·电机功率：750 W ·极限压强：5×10-1Pa（不带负载） |
| 薄膜测厚仪（可选） | ·一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å ·LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
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| 质保 | 一年质保期，终生维护 |
| 认证 | ·此产品已通过CE认证 证书编号：M.2021.206.C67994 ·若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证
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