PECVD系统
关键字：
可用于生长纳米或石墨烯材料。
型号：
OTF-1200X-II-80-4CLV-PE（带滑轨）
产品概述：
OTF-1200X-II-80-4CLV-PE（带滑轨）是一款滑动式双温区PECVD管式炉系统。该系统包含等离子射频电源，双温区滑轨炉，4通道质量流量供气系统和机械泵机组，可用于生长纳米或石墨烯材料。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
设备名称型号

PECVD系统 OTF-1200X-II-80-4CLV-PE（带滑轨）
产品特点

· 射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度

· 滑轨炉可使样品快速加热和快速冷却

· 加热炉含有两个温区，温度梯度最大可达200℃

· 可制备碳、氧化锌纳米管或纳米线及单层石墨烯等
滑轨炉参数

· 电源：AC220V/50HZ

· 功率：3.0KW

· 加热区长度：200mm*2

· 最高温度：1200度（≤30min）

· 工作温度：1100度

· 热电偶：K型

· 智能化仪表，PID控制，30段程序控温

· 炉体可滑动位移：600mm

· 炉管尺寸：φ80*1400mm

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法兰

· 标配一套不锈钢真空法兰

· 进气端法兰上安装了一个机械压力表用于观察炉管内的压力，压力表范围-0.1-0.15MPa；一个φ6.35的卡套接头作为进气口使用，并通过一个不锈钢针阀控制进气的通断

· 出气端法兰包含一个φ8mm宝塔气嘴的出气口，并通过一个不锈钢针阀控制出气的通断。一个KF25接口为抽真空接口，用于连接真空系统。一个KF16的接口用于连接电阻真空计。

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真空系统

· 电源：AC220V/50Hz

· 功率：0.55KW

· 极限真空度：5.0*10-1Pa（无负载）

· 抽气速率：3L/s

· 抽气口：KF25接口

· 可选配真空度更高的系统

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供气系统

· 型号：GSL-4Z-LCD

· 质量流量控制器：100SCCM、200SCCM、200SCCM、500SCCM

· 量程可以选配

· 精度：±1.5%FS

· 最大压力：0.3MPa

· 内部连接1/4英寸不锈钢和聚四氟管

· 内置不锈钢混气罐

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射频电源

· 功率输出范围：0-500W

· 功率稳定度：≤±5W

· 射频频率：13.56MHZ

· 自动匹配

· 噪音：≤50dB

· 冷却方式：风冷

图片6.png
设备外形尺寸

约2300长*700宽*1380mm高

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设备重量

约240KG
质保

一年质保期，终生维护

· 特别提示：

1、耗材部分如加热元件、炉管、样品坩埚等不包含在内

2、因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内

· 石英管内的气压不可高于0.02MPa；

· 气瓶上必须安装减压阀，为了确保安全，建议使用压力低于0.02MPa，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全；

· 对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开出气阀，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）

· 我们不建议客户使用易燃易爆和有毒的气体，如果客户工艺原因确实需要使用易燃易爆和有毒气体，请客户自行做好相关防护和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒气体而造成的相关问题，本公司概不负责。


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