高真空腔体
型号：
HVC-SS
产品概述：
这是一个预制多功能真空腔体，可以根据客户需求定制，例如作为真空溅射腔体（可在顶部添加多个溅射靶头），CVD,ALD等等。同时，也可以单独作为一个高真空储存盒使用。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
腔体

·304不锈钢制造，并配备有加强筋

·内部尺寸：470mm L×445mm D×522mm H

·配备φ380 mm 密封门，配备150 mm玻璃观察窗

·采用硅胶O型密封圈

·工作温度范围： -15 to 150°C
真空/压力

·E-3 torr 使用机械泵，具体型号请点击

·4E-5使用分子泵，具体型号请点击
接口/配套装置

·在腔体的右侧安装有一个KF40接口，用于连接真空泵

·共计4个KF25接口，三个在腔体右侧一个在左侧

·共计三个用于充放气的真阀，两个在在腔体后面，一个在左侧

·顶部盖板可以开启，用于连接客户定制的设备

·接口与阀门可以按照客户的要求进行定制

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应用

·磁控溅射腔体：

 一个完整的磁控溅射系统包含：1个真空腔体，磁控溅射靶头，溅射电源（DC or RF）,真空泵系统（机械泵或者分子泵），水冷系统。

 图示为一个使用真空腔体搭建的完成磁控溅射系统（DC/RF可切换）

 此真空腔体可以安装单个或者多个溅射靶头。最多安装3个2"靶头或5个1"靶头。

 如果您有定制需求，请联系我们对靶头匹配等事宜进行讨论，我们可以在真空腔体上根据您的需求安装好靶头。

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应用案例

·可安装3个2"靶头或5个1"靶头

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可选

·请点击图1选择通用的真空配件，点击图2选择可以摆放此腔体的真空泵系统点击 图3选择相关磁控溅射配件

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尺寸

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质保

·质保一年
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