| 产品特点 | ·水冷高真空腔体，真空度可达10-4Pa ·水冷铜坩埚，可按照客户要求制作成各种形状 ·起弧钨针与样品距离可调节（电机驱动），最大距离100mm ·一个样品翻转杆，可在不破坏真空&气氛环境下反转样品 ·吸铸功能，电磁搅拌功能：对高温熔融态的金属样品进行搅拌 |
| 供电要求 | ·输入：380VAC，3相，65KW，50/60Hz |
| 熔炼腔体 | ·高真空水冷腔体，材质为304不锈钢 ·真空度：5×10-4Pa(采用1200L/s的分子泵系统） ·泄露率：5.0×10-5Pa.m3/s ·腔体尺寸：Φ400×350mm ·前门一个观察窗口，用于观察样品熔炼过程 ·可选：CF法兰接口的2L储气罐，用于连接气体分析仪 ·一个样品翻转杆，可在不破坏真空&气氛环境下，翻转样品
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| 水冷铜坩埚 | ·2种规格的水冷铜可供选择： (1) 单工位水冷铜坩埚最大熔炼量500g(不锈钢密度计算），图1（直径120×深度20mm） (2) 5工位水冷铜坩埚，含真空吸铸和电磁搅拌工位（图2） 工位1：Φ80×35mm,带有电磁搅拌功能 工位2：Φ65×25mm 工位3：Φ65×25mm 工位4：Φ50×25mm用于熔Ti或Zr，吸腔体中的微量氧气 工位5：Φ60×20mm,带真空吸铸功能，吸铸模具Φ8mm×70mm ·注意：熔炼样品量，是按照SS304不锈钢密度计算 ·可更具客户要求定制水冷铜坩埚
图1 图2 图3
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| 钨电极&电源 | ·输出：83VDC，60A-1000A（可调） ·钨电极直径: Ø12 mm ·钨电极可移动行程 100 mm ·最大电流连续操作时间: 30 min
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| 真空系统 | ·安装有一个抽速为1200L/s的分子泵系统在设备上 ·真空度：5.0×10-4Pa |
| 循环水冷机 | ·配有一台循环水冷机 流量58L/min,冷却能力：17KBTU/hr ·温度控制：5~30℃ ·制冷剂：R410-a |
| 产品尺寸 | ·800mm×1200mm×1800mm
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| 工作气体 | ·高纯Ar气，纯度5N（＞99.999%）（设备中不包含） ·5% H2+ 95% Ar可能需要，用于在熔炼过程中防止样品氧化 ·可能需要高出Ti样品，熔高纯Ti可吸收腔体中微量的氧 ·气瓶上必须安装双级减压阀，将输出气体压力减小到0.02MPa |
| 质保 | ·一年质保期，终生维护 |
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皖公网安备 34012302000974号